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對(duì)比陰極弧與HiPIMS對(duì)AlTiN沉積膜層的研究

目前制備硬質(zhì)合金涂層主要可采用PVD方式,而PVD沉積除磁控放電外,還有陰極弧放電進(jìn)行涂層PVD沉積,相比磁控,陰極弧放電結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,已廣泛應(yīng)用于各種涂層技術(shù)的制備,如裝飾鍍層,其工藝沉積速率快。隨著工藝的要求逐漸提高,硬質(zhì)合金涂層在硬度等方面提出了更高的要求,

手表裝飾涂層

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新鉑科技刀具涂層展示

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新鉑科技:什么是輝光?

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真空鍍膜的分類

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩類,即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。

真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域

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