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真空鍍膜材料有哪幾種

在工業(yè)生產(chǎn)中,滾筒輸送流水線發(fā)揮著重要作用,但長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行后,難免會(huì)出現(xiàn)一些故障,影響生產(chǎn)效率。了解常見故障及解決辦法,能有效保障生產(chǎn)的順利進(jìn)行。

光學(xué)膜層厚度的控制方法

在光學(xué)薄膜的制備過(guò)程中,控制膜層厚度至關(guān)重要,它直接影響到薄膜的光學(xué)性能,比如反射率、透射率以及特定波長(zhǎng)的選擇透過(guò)性等。以下是幾種常見的光學(xué)膜層厚度控制方法。

高功率脈沖磁控濺射HiPIMS的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)與多樣化應(yīng)用

高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)作為一種薄膜制備技術(shù),近年來(lái)在材料科學(xué)與工程領(lǐng)域嶄露頭角。HiPIMS通過(guò)在傳統(tǒng)磁控濺射基礎(chǔ)上施加高功率脈沖電源,實(shí)現(xiàn)了對(duì)濺射過(guò)程的控制,從而展現(xiàn)出一系列獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。

納米鍍膜關(guān)鍵技術(shù)難點(diǎn)有哪些?

    納米鍍膜技術(shù)以其獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)在眾多領(lǐng)域展現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景,然而,其發(fā)展過(guò)程中也面臨著諸多關(guān)鍵技術(shù)難點(diǎn)。

離子鍍膜離子能量怎樣影響膜層?

在離子鍍膜過(guò)程中,離子能量作為關(guān)鍵參數(shù),對(duì)膜層結(jié)構(gòu)與性能有著舉足輕重的影響。當(dāng)離子能量較低時(shí),離子抵達(dá)基體表面時(shí)動(dòng)能不足,無(wú)法在表面充分?jǐn)U散遷移,致使膜層晶粒細(xì)小,結(jié)構(gòu)呈現(xiàn)疏松多孔的柱狀生長(zhǎng)形態(tài)

HiPIMS技術(shù)制備純金屬薄膜時(shí),靶材的選擇需要考慮哪些因素?

HiPIMS 技術(shù)制備純金屬薄膜時(shí),靶材的選擇需綜合考量多方面因素。

HIPiMS技術(shù)放電制備純金屬薄膜的優(yōu)勢(shì)

HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射)放電在制備純金屬薄膜方面具有諸多顯著優(yōu)勢(shì)。