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HiPIMS放電制備純金屬薄膜的優(yōu)勢

高功率磁控濺射(HiPIMS) 制備ITO柔性膜

怎樣提高高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS）沉積速率？電源、磁場、工藝自身！

真空鍍膜pvd的工藝流程

　真空鍍膜是一種常用的表面處理技術，用于在各種材料表面形成薄膜。下面是真空鍍膜（PVD）的典型工藝流程。

hipims技術是物理還是化學

　HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）技術是一種物理上的表面處理技術，它結合了直流磁控濺射（DCMS）和脈沖功率供應，以實現(xiàn)更高的能量和離子密度。

鍍膜工藝技術分類和理論

鍍膜工藝技術是一種將薄膜沉積在基材表面的工藝過程，以增強基材的功能和性能。根據(jù)不同的工藝原理和沉積方法，可以將鍍膜工藝技術分為不同的分類。以下是關于鍍膜工藝技術分類和理論的簡要說明：

真空鍍膜電源為什么一定要接地？

真空鍍膜電源之所以需要接地是為了確保安全性和保護設備運行的穩(wěn)定性。

鍍膜電源是什么

鍍膜電源是一種用于鍍膜過程中的電力供應系統(tǒng)。它為鍍膜工藝中的電解槽提供所需的電能，使金屬離子在電解過程中沉積到基材上，形成一層薄膜。